Primo iDEA?（即“双反应台刻蚀除胶一体机”）源于九州酷游ku游登录平台的一个新理念，， ，，， ，，即：将一个或两个双反应台D-RIE或AD-RIE工艺模浚浚�？？？？椤⒑鸵桓鲈冻痰壤胱犹逶闯浩鳎―sA）反应腔整合在统一个平台上。。。。。九州酷游ku游登录平台的远程等离子体源除胶器接纳了双反应台腔体设计，， ，，， ，，顶置的远程等离子体源（RPS）爆发的活性反应物质，， ，，， ，，被匀称地运送到晶圆外貌以移除光刻胶。。。。。这种要领能够提高光刻胶移除效率，， ，，， ，，并降低等离子体直接接触晶圆的时机。。。。。这关于一些客户来说尤为主要，， ，，， ，，其芯片器件对外貌电荷极其敏感，， ，，， ，，保存等离子体诱发损伤（PID）的潜在危害。。。。。为相识决这方面的记挂，， ，，， ，，客户通常要支付重大的人力和物力修改整合计划，， ，，， ，，或者为每个办法（例如光刻胶移除）添置专用装备。。。。。拥有Primo iDEA整合系统后，， ，，， ，，客户可以在统一个平台上无邪地举行芯片晌蚀和光刻胶移除，， ，，， ，，显著镌汰装备占地面积，， ，，， ，，提高生产效率。。。。。Primo iDEA提供了具有本钱优势的解决计划。。。。。
为芯片晌蚀和光刻胶移除提供立异的整合解决计划
远程等离子体源
高效率除胶
高效离子隔滤，， ，，， ，，以阻止对器件造成等离子体诱发损伤
双反应台刻蚀与除胶整合一体机，， ，，， ，，显著减小占地面积
使用Primo iDEA?系统设计以取代单独的刻蚀和除胶系统，， ，，， ，，节约本钱20%以上
