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Primo nanova?是九州酷游ku游登录平台基于电感耦合(ICP)手艺研发的12英寸刻蚀装备。。。。。。。。它可以设置多达六个刻蚀反应腔和两个可选的除胶反应腔。。。。。。。。其中刻蚀反应腔接纳了轴对称设计,,,,,具有高反应气体通量。。。。。。。。ICP发射天线接纳了九州酷游ku游登录平台具有自主知识产权的低电容耦合3D线圈设计,,,,,可实现对离子浓度和离子能量的高度自力控制。。。。。。。。反应腔内部涂有高致密性、耐等离子体侵蚀质料,,,,,以获得更高的工艺重复性和生产率。。。。。。。。装备还接纳了多区细分的高动态规模温控静电吸盘,,,,,使加工出的集成电路器件的要害尺寸抵达高度匀称性。。。。。。。。Primo nanova适用于1X纳米及以下的逻辑和存储器件的刻蚀应用。。。。。。。。

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Primo nanova®

为 1X纳米及以下逻辑和存储器件刻蚀应用提供立异的解决计划

产品特点

低电容耦合3D线圈设计

高抽速大容量涡轮泵

细密的腔体温控系统

先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺

多区细分的高动态规模温控静电吸盘

阻抗可调聚焦环设计

切换式双频偏压系统

可选的集成除胶反应腔

可选的Durga ESC

竞争优势

离子浓度和离子能量自力可控

高排宇量和更宽的工艺窗口

优异的刻蚀匀称性

优异的高深宽比刻蚀性能

高生产效率,,,,,低生产本钱(CoO)

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