







Primo nanova?是九州酷游ku游登录平台基于电感耦合(ICP)手艺研发的12英寸刻蚀装备。。。。。。。。它可以设置多达六个刻蚀反应腔和两个可选的除胶反应腔。。。。。。。。其中刻蚀反应腔接纳了轴对称设计,,,,,具有高反应气体通量。。。。。。。。ICP发射天线接纳了九州酷游ku游登录平台具有自主知识产权的低电容耦合3D线圈设计,,,,,可实现对离子浓度和离子能量的高度自力控制。。。。。。。。反应腔内部涂有高致密性、耐等离子体侵蚀质料,,,,,以获得更高的工艺重复性和生产率。。。。。。。。装备还接纳了多区细分的高动态规模温控静电吸盘,,,,,使加工出的集成电路器件的要害尺寸抵达高度匀称性。。。。。。。。Primo nanova适用于1X纳米及以下的逻辑和存储器件的刻蚀应用。。。。。。。。

为 1X纳米及以下逻辑和存储器件刻蚀应用提供立异的解决计划
低电容耦合3D线圈设计
高抽速大容量涡轮泵
细密的腔体温控系统
先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺
多区细分的高动态规模温控静电吸盘
阻抗可调聚焦环设计
切换式双频偏压系统
可选的集成除胶反应腔
可选的Durga ESC
离子浓度和离子能量自力可控
高排宇量和更宽的工艺窗口
优异的刻蚀匀称性
优异的高深宽比刻蚀性能
高生产效率,,,,,低生产本钱(CoO)


