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Primo Twin-Star? 是九州酷游ku游登录平台基于电感耦合(ICP)手艺研发的 12 英寸刻蚀装备。 。。。。它可以设置多达三个具有双反应台的刻蚀反应腔和两个可选的除胶反应腔。 。。。。每个刻蚀反应腔可同时加工一片或两片晶圆并取得高度匀称和一致的效果。 。。。。ICP 发射天线接纳了九州酷游ku游登录平台具有自主知识产权的低电容耦合 3D 线圈设计 ,,,,,,,可实现对离子浓度和离子能量的高度自力控制。 。。。。装备还接纳了可实现多区动态温控的静电吸盘 ,,,,,,,使加工出的集成电路器件的要害尺寸抵达高度匀称性。 。。。。反应腔内部涂有高致密性、耐等离子体侵蚀质料 ,,,,,,,以获得更高的工艺重复性和生产率。 。。。。Primo Twin-Star? 适用于种种尺寸和深度的硅结构刻蚀以及逻辑和存储芯片的多种导体和介质薄膜刻蚀。 。。。。别的 ,,,,,,,该产品和单反应台腔体相比还具有显着的低本钱优势。 。。。。

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Primo Twin-Star®

为功率器件、逻辑芯片和存储芯片等应用提供的高性价比的刻蚀解决计划

产品特点

双反应台腔体设计

低电容耦合3D线圈设计

高抽速大容量涡轮泵

双通道进气

细密的腔体温控和RF窗口温控系统

先进的高致密性、耐等离子体侵蚀涂层工艺多区动态温控静电吸盘

13兆赫或400千赫脉冲偏压系统

可选的集成除胶反应腔

竞争优势

离子浓度和离子能量自力可控

高排宇量和更宽的工艺窗口

优异的刻蚀匀称性

优异的高深宽比刻蚀性能

高生产效率 ,,,,,,,低生产本钱(CoO)

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