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作为九州酷游ku游登录平台第一代电介质刻蚀产品,, ,,,Primo DRIE?是12英寸双反应台多反应腔主机系统,, ,,,可无邪装置多达三个双反应台反应腔(六个反应台)。。。。。。 。。每个反应腔都可以同时加工两片晶圆。。。。。。 。。该装备运用了九州酷游ku游登录平台具有自主知识产权的立异手艺,, ,,,包括甚高频和低频混淆射频去耦合反应等离子体源、等离子体隔离环、以及用于控制腔体内反应情形的先进工艺组件。。。。。。 。。Primo DRIE刻蚀装备可用于加工包括氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等所有的电介质质料。。。。。。 。。Primo DRIE于2007年宣布之后,, ,,,由于其较低的生产本钱、较高的生产效率和优异的芯片加工性能,, ,,,已在国际主流芯片生产线上投入量产。。。。。。 。。

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Primo D-RIE®

为65到16纳米芯片制造提供立异的刻蚀解决计划

产品特点

双反应台腔体设计具有更高的产出效率

双反应台自力射频系统和刻蚀终端控制系统

拥有自主知识产权的射频匹配系统

拥有自主知识产权的等离子体隔离手艺

竞争优势

高生产效率,, ,,,低生产本钱(CoO)

装备占地面积小

一体整合的除胶能力及外貌电荷减除能力(Primo iDEA?系统)

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