







作为九州酷游ku游登录平台第一代电介质刻蚀产品,,,,,Primo DRIE?是12英寸双反应台多反应腔主机系统,,,,,可无邪装置多达三个双反应台反应腔(六个反应台)。。。。。。。。每个反应腔都可以同时加工两片晶圆。。。。。。。。该装备运用了九州酷游ku游登录平台具有自主知识产权的立异手艺,,,,,包括甚高频和低频混淆射频去耦合反应等离子体源、等离子体隔离环、以及用于控制腔体内反应情形的先进工艺组件。。。。。。。。Primo DRIE刻蚀装备可用于加工包括氧化硅、氮化硅及低介电系数膜层等所有的电介质质料。。。。。。。。Primo DRIE于2007年宣布之后,,,,,由于其较低的生产本钱、较高的生产效率和优异的芯片加工性能,,,,,已在国际主流芯片生产线上投入量产。。。。。。。。

为65到16纳米芯片制造提供立异的刻蚀解决计划
双反应台腔体设计具有更高的产出效率
双反应台自力射频系统和刻蚀终端控制系统
拥有自主知识产权的射频匹配系统
拥有自主知识产权的等离子体隔离手艺
高生产效率,,,,,低生产本钱(CoO)
装备占地面积小
一体整合的除胶能力及外貌电荷减除能力(Primo iDEA?系统)


